中國成功研發首台商業電子束光刻機「羲之」

浙江大學餘杭量子研究院近日宣布成功研發中國首台商業化電子束光刻機「羲之」，這款100kV電子束光刻機已正式投入市場應用，標誌著中國在高端半導體設備領域的重大突破。其精度達到0.6納米，線寬8納米，性能媲美國際主流設備，被譽為量子晶片研發的「中國刻刀」，有望打破國際出口管制的限制，為國內科研及產業提供重要支撐。

話說返黎，呢台「羲之」真是一個大突破！佢好似一支超勁嘅「納米神筆」，可以喺矽基晶圓上面好精準咁「手寫」電路，唔使好似傳統光刻機咁用掩膜版，隨時改設計都得，超方便。呢個特點對於量子晶片同新型半導體嘅研發嚟講真是一個寶，尤其喺初期要頻繁調試嘅時候，效率高到爆！佢嘅精度去到0.6納米，線寬得8納米，已經同國際頂尖設備睇齊，仲要價錢比外國機平，性價比真是一個正！

以前，呢啲高階電子束光刻機畀外國壟斷，仲有嚴格嘅出口管制，國內好多頂尖科研機構同企業想買都買唔到，真是一個「卡脖子」嘅難題。而家「羲之」出世，等於話畀中國科研同產業開闢咗一條自主可控嘅路。據講，呢台機已經同好多企業同科研機構開始洽談合作，包括華為海思咁大牌嘅公司，睇嚟市場需求真是一個勁！

不過，話需提提，電子束光刻技術雖然勁，但同光學光刻機比起來，量產效率係一個短板。譬如話，一片12吋晶圓用單束電子束光刻可能要成個月，多束技術都要一個鐘頭，而ASML嘅EUV光刻機一個鐘頭可以搞掂幾十甚至上百片晶圓，效率差距真是一個天同地。所以現時業界多數用「混合製程」，細節圖形用電子束光刻，大線條就畀光學光刻機搞掂，咁樣可以平衡精度同效率。

「羲之」嘅成功，背後係浙江大學同餘杭區嘅「科技創新」同「產業創新」融合嘅成果。佢哋透過「技術需求清單」、「教授揭榜攻關」同「全流程陪跑」嘅模式，將實驗室嘅研究成果快速轉化成市場化產品。呢個模式唔單止幫到「羲之」，仲推動咗杭州城西科創大走廊好多其他項目嘅落地。未來，餘杭仲會繼續深化呢啲創新模式，力爭喺高端裝備領域打造更多「中國刻刀」，為中國科技自主化注入新動力。

總括嚟講，「羲之」唔單止係一台設備，仲係中國科技自立自強嘅一個象徵。佢嘅出現，等於話畀世界知，中國喺高端半導體設備領域已經有能力同國際大廠掰手腕。雖然距離完全取代EUV光刻機仲有段路要行，但喺量子晶片同新材料研發嘅戰場上，「羲之」已經係一把無可替代嘅利器！